半导体芯片蚀刻

应用场景

半导体晶圆生产需要99.999%以上高纯氩气，用于单晶硅生长、芯片刻蚀、离子注入工艺，氩气作为惰性保护气隔绝氧气水汽，保证纳米级芯片生产环境超高纯净度。

配套设备

• 高纯液氩储罐（带纯化装置）
• 大流量汽化器
• 两级精密调压阀组
• 气体纯度在线监测

方案优势

我们的高纯储罐带二次纯化装置，输出氩气纯度可达99.9999%，满足14nm以下芯片生产要求；压力波动≤±0.005MPa，不会因为压力波动影响芯片蚀刻工艺。